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ホウ素はドープして、グラフェン酸化グラフェン粉末を還元しました

ホウ素はドープして、グラフェン酸化グラフェン粉末を還元しました

SATナノは、10年以上にわたってホウ素ドープ還元グラフェン酸化物粉末の生産を専門としており、中国の優れたサプライヤーです。ホウ素ドープは、エネルギー産業燃料電池水素貯蔵材料、多孔質触媒合成化学産業、導電性プラスチック、導電性コーティング、建設産業、および消火材料のその他の側面をカバーするグラフェン酸化物粉末用途を還元しました。 SATナノ供給ホウ素ドープは、95%と99%の純度で0.5-10UMのグラフェン酸化グラフェンパウダーを減らします。高品質で手頃な価格で、顧客に深く愛されています。

モデル:SAT-BDRGTO

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製品説明

Boron doped reduced graphene oxide powder



製品機能


1.極性導電率:ホウ素ドーピングは、グラフェンの導電率を大幅に改善する可能性があり、抵抗率が低く、キャリアの可動性が高くなります。


2.強化された電気化学パフォーマンス:ホウ素ドーピングは、グラフェンの電気化学活性部位を増加させ、電気化学的安定性と反応性を向上させることができ、したがって、リチウムイオン電池、スーパーキャパシタ、およびその他の分野で幅広いアプリケーションの見通しがあります。


3.拡張特定の表面積と多孔性:ホウ素ドーピング中に、より多くの欠陥と孔が生成される可能性があり、それにより、吸着や触媒などの用途に有益なグラフェンの特定の表面積と多孔性を拡大します。


4.グッド生体適合性:ホウ素ドープ還元グラフェン酸化物粉末には、薬物キャリア、バイオセンサーなどなど、生物医学分野で特定の潜在的な用途もあります。





Boron doped reduced graphene oxide powder

仕様:


CAS NO:7440-44-0

外径:0.5-10um

厚さ:<= 5nm

純度:95%と99%

ボロン:2.2%

外観:ブラックパウダーノート:クライアントの要件に応じて、ホウ素ドープ還元グラフェンオキシドパウダーのさまざまなサイズの製品を供給できます。




応用:



1.エネルギー貯蔵:エネルギー密度と電力密度を高めるために、リチウムイオン電池およびスーパーキャパシタの電極材料として使用されます。


2.触媒場:触媒キャリアまたは触媒自体として、化学反応の触媒効率と選択性が向上します。


3. Biomedical:バイオセンサーや薬物送達システムなどの生物医学分野で使用されます。


4.環境保護:下水処理や空気浄化などの環境保護分野の吸着剤または触媒として使用されます。





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